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平面激光干涉儀

平面激光干涉儀型號：XQ15-G1

用途：
XQ15-G1激光平面干涉儀可廣泛用于工廠的計量室、光學車間和科研院所的實驗室。光學平面的平面度測量、光學平板的微小楔角測量、光學材料均勻性測量、光學薄板波前誤差的測量。
特點：
防震性能好、有極好的條紋鎖定度、視場清晰、生產場所可用性優于市場同類產品，大容量的工作室為大批量生產企業的大鏡面檢測提供了方便。
技術參數：
第一標準平面（A面），工作直徑D1=Φ146mm，平面的面形偏差小于0.03μm(λ/20)
第二標準平面（B面），工作直徑D2=Φ140mm，平面的面形偏差小于0.03μm(λ/20)
準直系統－－－－－－－－－－－－－－－－－工作直徑Φ146mm，焦距 f = 400mm
光源規格－－－－－－－－－－－－－－－－－激光ZN18(He-Ne)
干涉室尺寸－－－－－－－－－－－－－－－－Φ480×380×285mm

選配件一：
精密升降工作臺（適用GⅠ、GⅡ型）
用途：主要用于平晶、平行平晶等非鍍膜面高精度平面度的測量與檢定以及儀器采用鈉光或汞光照明時的測量。

選配件二：
透檢工作臺（適用GⅠ型）
用途：主要用于超薄平行平板的波前誤差測量、光學平板微小楔角相對干涉測量以及光學材料折射率均勻性的偏差判斷。

選配件三：
高反射面測量工作臺（適用GⅠ、GⅡ、GⅢ型）
用途：主要用于鍍反射膜及高折射率材料（如硅、鍺等材料）表面精度的測量與檢定。

選配件四：
顯示監控系統（適用GⅠ型）
用途：顯示監控系統的應用，可減輕操作者的勞動強度，并可實施多人判讀與分析，以達到教學與監控的目的。

選配件五：
計算機影像系統（適用GⅠ、GⅡ、GⅢ型）
用途：影像系統的應用，可將被檢測鏡面的原始資料通過計算機保存和傳輸，以達到資料存檔及遠程監控、驗收評定質量的目的。

選配件六：
倍率成像測微系統（適用GⅠ、GⅡ、GⅢ型）
用途：主要用于目視精確量值的索得及小型被測件干涉條紋按要求放大測量與判讀。
技術參數：
測微目鏡放大率15X
倍率成像測微目鏡適用范圍見下表：

規格 size	焦距 focal length(mm)	放大倍率（β） magnification	適用被測口徑 Working aperture
F15	151	0.56	Ф90~Ф150
F23	23	0.86	Ф50~Ф105
F37	37	1.39	Ф60以下

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